ASML en Intel brengen High NA EUV naar massaproductie van AI-chips
ASML en Intel Foundry melden nieuwe productiemijlpalen met High NA EUV-lithografie. Intel heeft inmiddels meer dan een miljoen wafers met High NA-technologie verwerkt voor certificatie, onderzoek en productie, waaronder geselecteerde lagen van Core Ultra Series 3-processors. De ontwikkeling is direct Nederlands: de lithografiesystemen komen van ASML uit Veldhoven en moeten toekomstige geavanceerde AI-processors mogelijk maken.
Intel Foundry en ASML maakten de voortgang op 8 september bekend tijdens de SPIE-conferentie over photomask- en EUV-technologie in Californië. Intel gebruikt High NA inmiddels in high-volume manufacturing. De onderneming meldt dat overlay, throughput en beschikbaarheid aan de eigen verwachtingen voldoen.
Op het Intel 18A-productieproces leveren lagen die met High NA zijn geproduceerd volgens Intel resultaten die gelijkwaardig of beter zijn dan vergelijkbare lagen die met bestaande 0,33-NA EUV-systemen zijn gemaakt. Dat zijn technische resultaten van Intel en ASML en geen onafhankelijk uitgevoerde benchmark.
High NA gebruikt een grotere numerieke apertuur om kleinere structuren te kunnen produceren. ASML leverde in 2024 het eerste commerciële EXE-systeem aan Intel.
Meer dan miljoen wafers verwerkt met technologie uit Veldhoven
De grens van meer dan één miljoen verwerkte wafers is relevant omdat High NA daarmee verder komt dan laboratoriumtests. Een deel van het volume betreft onderzoek en toolcertificatie, maar Intel gebruikt de technologie inmiddels ook voor geselecteerde productielagen.
Intel en ASML werken daarnaast aan grotere photomasks. De huidige High NA-productie gebruikt standaardmaskers van zes inch. De bedrijven ondersteunen tegelijk een overgang naar een formaat van zes bij twaalf inch om toekomstige schaalvergroting mogelijk te maken.
ASML en TSMC maakten op dezelfde ochtend bekend eveneens een industrie-initiatief voor grotere maskers te starten. Dat programma mikt op een pilotlijn voor 12-inch masks in 2031 en volledige systeemgereedheid voor geavanceerde productie rond 2033.
AI-vraag verschuift naar productietechnologie achter modellen
De directe relatie met AI zit niet in software, maar in de chips waarop modellen worden getraind en uitgevoerd. Intel stelt expliciet dat toekomstige complexe AI-producten nieuwe productieprocessen vereisen die op schaal kunnen worden ingezet.
De waarde van AI-infrastructuur wordt daardoor mede bepaald door lithografie, maskers, materialen en productiesoftware.
Voor de Nederlandse technologiesector versterkt dat de positie van het Brainport-cluster als leverancier van cruciale infrastructuur onder de mondiale AI-markt.
Duiding: Nederlandse AI-economie verdient ook aan de productielaag
Een concrete kans voor Nederlandse hightechbedrijven ligt in de toeleverketen rond ASML. Wanneer High NA verder naar volumeproductie schuift, stijgt de behoefte aan gespecialiseerde onderdelen, metrologie, software, maskertechnologie en productieondersteuning. Nederlandse bedrijven kunnen daarmee aan AI groeien zonder zelf taalmodellen te ontwikkelen.
Het risico is concentratie. Een groot deel van de Nederlandse economische blootstelling aan AI loopt via een kleine groep mondiale chipfabrikanten en uitzonderlijk complexe productieketens. Vertraging bij High NA, lagere investeringen door chipmakers of geopolitieke exportbeperkingen kunnen daardoor snel doorwerken in Nederlandse leveranciers. Dit is redactionele duiding.
Meer informatie
Primaire bron: Intel en ASML over High NA-productie
Aanvullende primaire bron: ASML en TSMC over grotere EUV-photomasks